摘要
本论文以高压汞灯、紫外灯和太阳光为光源，研究了磺酰脲类除草剂单嘧磺隆在水中以及玻片表面的降解状况；并在高压汞灯的照射下，分别研究了不同水质和不同溶解氧量对单嘧磺隆在水中光解的影响。并利用GC-MS对单嘧磺隆在乙腈中的光解产物进行检测，推测出单嘧磺隆在乙腈中光解的可能反应途径。主要研究结果如下：
1．建立了单嘧磺隆的残留分析方法，采用高效液相色谱可变波长紫外检测器检测，检测波长254nm，250mm×4．6mm不锈钢ODS 5μm球形硅胶填料色谱柱，甲醇／水(55∶45，V／V)为流动相，流速为0．8mL／min，此条件下单嘧磺隆的分离效果较好。
2．在高压汞灯的照射下，玻片上的单嘧磺隆降解半衰期为147min,降解符合一级动力学方程。
3．单嘧磺隆在不同光源、不同水质中降解速率存在着明显差异，在太阳光下，其在重蒸水中的半衰期为7．32d，在高压汞灯和紫外光灯下降解速率顺序相同，由大到小依次为重蒸水>自来水>河水>巢湖水。同时在紫外灯下的光解半衰期由高压汞灯下的3．05～4．86h延长到7．62～9．64h，表明不同光源、不同水质对单嘧磺隆光解产生重要影响。
4．单嘧磺隆在高压汞灯下，同步通空气和同步通氮气的降解速率也存在着明显差异：降解半衰期分别为0．894h，15．07h。随着水溶液中溶解氧浓度的减少，降解半衰期相应延长。
5．将单嘧磺隆在乙腈中光照后的试液在硅胶G板上点样，以三氯甲烷∶丙酮∶甲醇∶氨水=10∶2∶2∶0．5为配比的展开剂可以将光解产物1与原物质分离。其中单嘧磺隆比移值Rf为0．47，光解产物1的比移值Rf为0．95。
6．通过GC—MS的检测光解产物1的分子量为：202，其分子结构式为：
The photochemical degradation of Monosulfuron irradiated by high pressure mercurylamp (HPML), ultraviolet light and sunlight was investigated. The effects of different typesof water, dissolved oxygen on the photodegradation of Monosulfuron in aqueous solutionwere studied. By GC-MS, photoproducts of Monosulforn in acetonitrile was detected. Thepathway of Monosulfron photodegradation in acetonitrile under HPML was proposed..
1. The analytical method of monosulfuron by HPLC was established. A column ofstainless steel packed with ODS 5μm with 250mm×4.6mm was utilized.The operationparameters were optimized as: mobile phase, methanol/water=55/45(V/V) ,flow rate,0.8ml/min , a UV detection with wavelength of 254nm.
2. The photodegradation rate of Monosulfuron in aqueous solution or on glass surfaceby HPML is not very quickly, the half-life was 147min on glass surface. And thephotolysis of Monosulfuron follows the first order kinetics.
3. The results showed that Monosulfuron was very stable in water under sunlight, thehalf-lives of Monosulfuron under sunlight is 7.32d.But with the HPML and ultraviolet lightsources, the photolysis rates of Monosulfron ranged samely as:redistilled water > Tappedwater> river water(Dongpu reservoir) > lake water(Chaohu Lake). The half-lives ofmonosulfuron extended to7.62～9.64h under irradiation of ultraviolet light from 3.05～4.86h under HPML.
4. Dissolved oxygen can greatly promote the photodegradation of Monosulfuron. UnderHPML irradiation, with the role of dissolved oxygen, the photolysis rates of monosulfuronwere improved about 3.411 times and the half-life shortened to 0.894 hour from 3.05 hour withoutaerifying O_2.
5. Dissolve Monosulfron into acetonitrile then put this liquor under HPML. Spot the liquorwhich had been irradiated under HPML on surface of silica gel. Outspread the silica gelboard with the liquor that its compound is trichloromethane: methyl alcohol: acetone:ammonia=10:2:2:0.5 . And this liquor could separate monosulfuron with its product 1 ofphotodegradation. The Rf of Monosulfron is 0.47 while the product 1 is 0.95.
6. The photoproduct of Monosulfron in acetonitrile were identified by GC-MS, obtainedone photoproduct of Monosulfron in aqueoussolution under HPML, its molecular weightsis 202, with molecularstructure as follows:
引文
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