作者：考政晓 ; 张保国 ; 于璇 ; 杨盛华 ; 王万堂 ; 刘旭阳 ; 韦伟 ; 马腾达

关键词：单晶SiC ; 电化学腐蚀 ; 化学机械抛光(CMP) ; 氧化剂 ; 去除速率

年：2019

作者：韦嘉辉 ; 周海 ; 高晗 ; 梁志强

关键词：蓝宝石 ; 化学机械抛光(CMP) ; 清洗 ; 表面活性剂复配 ; 超声波

年：2019

作者：李丹

关键词：CMP ; 设备 ; 投资

年：2019

作者：张泽芳 ; 张文娟 ; 张善端 ; 李富友

关键词：铝合金 ; 氧化铝抛光液 ; 化学机械抛光 ; 光泽度 ; 材料去除率

年：2019

作者：袁巨龙 ; 毛美姣 ; 李敏 ; 刘舜 ; 胡自化 ; 吴锋

关键词：硬质合金刀具 ; 化学机械抛光 ; 机理 ; 化学反应 ; 运动轨迹 ; 材料去除率

年：2019

作者：滕康 ; 陈国美 ; 倪自丰 ; 钱善华 ; 白亚雯

关键词：碳化硅 ; 化学机械抛光 ; 催化剂 ; 材料去除率 ; 表面粗糙度 ; 粒径分布

年：2019

作者：孟凡宁 ; 张振宇 ; 郜培丽 ; 孟祥东 ; 刘健

关键词：化学机械抛光 ; 抛光液 ; 磨粒 ; 氧化剂 ; 绿色环保

年：2019

作者：刘萍 ; 王永光 ; 赵永武 ; 朱玉广

关键词：低压力 ; 化学机械抛光12 ; 4-三唑 ; 摩擦磨损 ; 化学反应活化能

年：2019

作者：陈国美 ; 倪自丰 ; 钱善华 ; 刘远祥 ; 杜春宽 ; 周凌 ; 徐伊岑 ; 赵永武

关键词：碳化硅 ; 化学机械抛光 ; 材料去除率 ; 晶面 ; pH值

年：2019

作者：李庆忠 ; 李强强 ; 孙苏磊

关键词：雾化施液 ; 硬脆晶体 ; 表面粗糙度 ; 相互促进

年：2019